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電極打磨為什么要用磨拋儀，這篇文章告訴你
更新時(shí)間：2025-04-02
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玻璃碳（Glassy carbon，GC）是電化學(xué)研究中使用頻繁的碳材料基礎(chǔ)電極，電極表征狀態(tài)對(duì)實(shí)驗(yàn)測(cè)試數(shù)據(jù)有重要影響。因此，在每次實(shí)驗(yàn)前都需要對(duì)電極進(jìn)行物理和化學(xué)方法預(yù)處理，去除表面雜質(zhì)污染。
電極如何科學(xué)打磨？要打磨到什么樣的狀態(tài)？為什么要用磨拋儀打磨，一起來了解下。
K3[Fe(CN)6]溶液是業(yè)界認(rèn)可的標(biāo)準(zhǔn)可逆體系，常用于可靠性測(cè)試，我們以此為定性條件，研究玻碳電極在不同程度的打磨條件下的電化學(xué)性能表現(xiàn)。
電極清洗磨拋過程
1、使用600目以上砂紙進(jìn)行初步打磨，隨后逐步更換至1000目、2000目，更換砂紙時(shí)注意電極表征情況，確保沒有坑洞、劃痕。
2、使用5μm非凝聚態(tài)氧化鋁拋光液在拋光布上進(jìn)行初步拋光，在超聲機(jī)中用酒精清洗玻碳表面。然后依次使用0.3μm、0.05μm 非凝聚態(tài)氧化鋁拋光液在麂皮上進(jìn)行細(xì)致拋光，拋光麂皮不可混用，要注意更換，更換時(shí)電極需在超聲機(jī)中用酒精清洗 （手工磨拋用時(shí)大約1天時(shí)間）
3、最后在N2飽和的條件下測(cè)量K3[Fe(CN)6]溶液的循環(huán)伏安曲線，測(cè)試電壓范圍為 -0.1 ~ 0.6 V ( vs. SCE), 掃描速率為 50 mV/ S。
電極磨拋效果測(cè)試
實(shí)驗(yàn)條件下所得循環(huán)伏安的峰電位差越接近理論值 64 mV 越好, 通常電位差能達(dá)到 100 mV 之間就符合使用要求。
圖片來源：1001-9677(2020)09-0073-02
上圖是直徑為4 mm 玻碳電極初次打磨活化后的循環(huán)伏安測(cè)試，并沒有拋光處理潔凈，顯示出高的峰電流以及電位差，推測(cè)是電極表面存在其他參與反應(yīng)的雜質(zhì)。
數(shù)據(jù)來源：1001-9677(2020)09-0073-02
統(tǒng)計(jì)4次打磨的電位差，數(shù)據(jù)顯示：隨著打磨次數(shù)越多，電極表征處理越干凈，電位差越接近測(cè)試?yán)碚撝怠?/p>
專業(yè)磨拋儀 vs 手動(dòng)打磨
傳統(tǒng)手工打磨電極采用“8字軌跡法"，在600目、1000目、2000目砂紙、拋光布、麂皮等材質(zhì)上反復(fù)打磨，通常要耗時(shí)1-2天時(shí)間。
重復(fù)繁瑣的手工打磨不僅手部酸痛，也非常煎熬心力，稍不注意，電極會(huì)被磨偏，從而影響實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。畢竟手工打磨不如機(jī)器打磨那么持久穩(wěn)定。
隨著90后、00后成為科研新生代，他們更希望把寶貴的科研時(shí)間用在更有價(jià)值的事情上。
DC REP-180電極磨拋儀作為電化學(xué)實(shí)驗(yàn)好幫手，讓老師同學(xué)們從繁瑣的的手工打磨中解放出來，節(jié)省科研時(shí)間，把更多的精力投入到科研創(chuàng)新研究中。早出論文，早出成果。
DC REP-180電極磨拋儀具有“模擬手工打磨"技術(shù)特點(diǎn)，遵循“8字軌跡法"打磨，用高性能電機(jī)驅(qū)動(dòng)打磨，力度均勻，效率更高，拋光效果更好。
